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類鑽碳系統
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類鑽碳系統功能及優勢

功能:

  • 業界首例值得投產的脈衝過濾型陰極電弧
  • 長距離、低壓 PVD
  • 反應性 PVD 製程可用
  • 配合可調諧的 NEXUS 420 離子束蝕刻來源可實現穩定作業
  • 傾斜的橢圓儀便於蝕刻及沉積端點控制

優勢:

  • 卓越的均勻性、可重複性及薄膜硬度
  • 具有稠密、無針孔的矽種晶層
  • 經改進的步驟範圍,帶來更佳製程產量
  • 更持久的滑塊覆層及著陸架
 
 
 
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