NEXUS IBD 離子束鍍膜系統

硬質偏壓層、鉛層、絕緣層及感測器堆疊鍍膜的理想之選

透過 Veeco 的第三代 NEXUS® 離子束鍍膜 (IBD) 系統，資料儲存製造商可顯著提高 80Gb/in² 感測器的產量，並符合薄膜磁頭 (TFMH) 裝置加工的未來需求。

• 支援廣泛的裝置，從當前的 CIP 至先進的電流垂直平面 (CPP) 裝置
• MRAM 應用以及 GMR 和穿隧式磁阻 (TMR) 薄膜磁頭的理想之選
• 改進型重要尺寸 (CD) 控制，適用於所有準直鍍膜應用
• 透過鍍膜卷流對稱抵達，獲得更小的起跳角
• 易於與 PVD、IBE 及其他技術整合的平臺