離子束蝕刻

離子束蝕刻

Lancer 離子束蝕刻系統

Lancer 離子束蝕刻系統

低擁有成本與最高刻蝕屬性的獨立離子束蝕刻系統

Veeco 離子束蝕刻優勢

離子束蝕刻是在高產量環境中實現先進薄膜裝置生產的成熟技術。但是研發與試產線製造環境皆持續創新同樣倚靠同及最佳效能規格的高效能蝕刻系統的新一代 MEMS、磁性感測器以及資料儲存裝置。Veeco 目前在全球已安裝超過 300 台離子束蝕刻系統,支援薄膜裝置應用。

全新 Lancer IBE 系統

全新 Lancer™ 離子束蝕刻 (IBE) 系統專為智慧型手機、異動駕駛汽車與其他「物聯網」裝置中的新一代電子裝置的開發與製造所設計,能實現更佳的連接性、功能性與移動型。

Lancer 系統在研發與生產環境中提供卓越的設備品質,諸如:

  • 同級最佳系統效能與容量
  • 單模組配置,且與上一代 IBE 相比,足跡降低更多
  • 久經證明的產品技術,已有大量安裝基礎
  • 大型應用資料庫,擁有專屬製程與技術專長
  • Veeco 銷售與服務支援基礎設施確保世界級的顧客滿意度   

 

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