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有機金屬化學氣相沉積 (MOCVD) 系統
TurboDisc MaxBright GaN 有機金屬化學氣相沉積 (MOCVD) 多反應器系統
TurboDisc K475 As/P 有機金屬化學氣相沉積法 (MOCVD) 系統
TurboDisc K465i GaN 有機金屬化學氣相沉積 (MOCVD) 系統
TurboDisc K465 GaN 有機金屬化學氣相沉積 (MOCVD) 系統
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TurboDisc MaxBright GaN 有機金屬化學氣相沉積 (MOCVD) 多反應器系統
TurboDisc K475 As/P 有機金屬化學氣相沉積法 (MOCVD) 系統
TurboDisc K465i GaN 有機金屬化學氣相沉積 (MOCVD) 系統
TurboDisc K465 GaN 有機金屬化學氣相沉積 (MOCVD) 系統
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有機金屬化學氣相沉積 (MOCVD) 系統功能及優勢
TurboDisc MaxBright GaN MOCVD 多反應器系統 ─ 造就 LED 製造業最高生產效率
產品詳細資料
功能:
Uniform FlowFlange® 技術可實現一流的均勻性及可複製性
緊湊型叢集架構
最高容量配置
最高產量反應器
TurboDisc 技術維護率低,能實現最高的系統可用性
優勢:
擁有成本最低
產量最高
佔用空間效率最高
資本效益最高
單層或多層生長室
從 K465i 開始的無縫製程轉移
可利用進階技術升級
TurboDisc K475 As/P 有機金屬化學氣相沉積法 (MOCVD) 系統 ─ 最可靠的平台,最低廉的生產成本
產品詳細資料
功能:
模組設計
調整式 FlowFlange®
進階 RealTemp® 200溫度控制技術
應有盡有的晶圓載具溶液
TurboDisc® 高速層流速度
完善的真空承載室
優勢:
業界領先的產量
卓越的一致性和複製性
優秀的再生性
符合特定需求的選項
低維護成本,最高生產力
最短的運作停機時間
TurboDisc K465i GaN MOCVD 系統 ─ 最高生產效率及同類最佳產量
產品詳細資料
功能:
Uniform FlowFlange® 技術可實現一流的均勻性及可複製性
TurboDisc 技術維護率低,能實現最高的系統可用性
優勢:
已經投產證實的 GaN MOCVD 系統
全自動化及維護後極快的恢復投產期,造就了業界最高的生產效率
TurboDisc K465 GaN MOCVD 系統 ─ 最高生產、最高盈利性之自動化
產品詳細資料
功能:
與久經讓實的 Veeco K300
MOCVD
系統共用平臺 ─ 專為優越的產量而設計
進階 TurboDisc
®
反應器技術,高速層流速度以及清潔作業消除了現場熱處理的需要
優勢:
可提供業界最高產量,適用於
GaN
的藍色及綠色
LED
以及藍色雷射之大容量生產
自動化平臺在控制資本成本的同時,還可為
HB-LED
廠商創造更多利潤
卓越的產量、均勻性及可複製性
TurboDisc E475 As/P MOCVD 系統 ─ 實現優質設備的最高容量生產
產品詳細資料
功能:
憑藉行業領先的產量,實現多接面 III-V 類聚光型太陽能電池、
HB-LED
、雷射二極體、pHEMT 及 HBT 的高容量生產
TurboDisc
®
技術維護率低,可實現最長的運行時間
整合型 RealTemp
®
200技術可直接控制晶圓溫度,快速切換氣體,並對介面之凸緩程度進行嚴格控制
優勢:
是大量生產
HB-LED
及聚光型太陽能電池的理想之選
卓越的材料品質與製程效率,加上極高的生產效率
HB-LED
與 III-V 類聚光型太陽能電池具有高投資回報率
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