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有機金屬化學氣相沉積 (MOCVD) 系統
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有機金屬化學氣相沉積 (MOCVD) 系統功能及優勢

功能:

  • Uniform FlowFlange® 技術可實現一流的均勻性及可複製性
  • 緊湊型叢集架構
  • 最高容量配置
  • 最高產量反應器
  • TurboDisc 技術維護率低,能實現最高的系統可用性

優勢:

  • 擁有成本最低
  • 產量最高
  • 佔用空間效率最高
  • 資本效益最高
  • 單層或多層生長室
  • 從 K465i 開始的無縫製程轉移
  • 可利用進階技術升級
 

功能:

  • 模組設計
  • 調整式 FlowFlange®
  • 進階 RealTemp® 200溫度控制技術
  • 應有盡有的晶圓載具溶液
  • TurboDisc® 高速層流速度
  • 完善的真空承載室

優勢:

  • 業界領先的產量
  • 卓越的一致性和複製性
  • 優秀的再生性
  • 符合特定需求的選項
  • 低維護成本,最高生產力
  • 最短的運作停機時間
 

功能:

  • Uniform FlowFlange® 技術可實現一流的均勻性及可複製性
  • TurboDisc 技術維護率低,能實現最高的系統可用性

優勢:

  • 已經投產證實的 GaN MOCVD 系統
  • 全自動化及維護後極快的恢復投產期,造就了業界最高的生產效率
 

  功能:

  • 與久經讓實的 Veeco K300 MOCVD 系統共用平臺 ─ 專為優越的產量而設計
  • 進階 TurboDisc® 反應器技術,高速層流速度以及清潔作業消除了現場熱處理的需要

  優勢:

  • 可提供業界最高產量,適用於 GaN 的藍色及綠色 LED 以及藍色雷射之大容量生產
  • 自動化平臺在控制資本成本的同時,還可為 HB-LED 廠商創造更多利潤
  • 卓越的產量、均勻性及可複製性
 

  功能:

  • 憑藉行業領先的產量,實現多接面 III-V 類聚光型太陽能電池、HB-LED、雷射二極體、pHEMT 及 HBT 的高容量生產
  • TurboDisc® 技術維護率低,可實現最長的運行時間
  • 整合型 RealTemp® 200技術可直接控制晶圓溫度,快速切換氣體,並對介面之凸緩程度進行嚴格控制

  優勢:

  • 是大量生產 HB-LED 及聚光型太陽能電池的理想之選
  • 卓越的材料品質與製程效率,加上極高的生產效率
  • HB-LED 與 III-V 類聚光型太陽能電池具有高投資回報率
 
 
 
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