TurboDisc K465i GaN 有機金屬化學氣相沉積 (MOCVD) 系統

最高生產效率及同類最佳產量

TurboDisc® K465i™ GaN 有機金屬化學氣相沉積 (MOCVD) 系統久經生產證實，可在全球範圍內提供高生產效率及 HB 發光二極體 (LED) 高容量生產加工。 K465i 憑藉其一流的均勻性及卓越的運行間可重複性，實現了高達 90% 的產量 (5nm bin)。 由於全自動生產及維護後極短的投產恢復期，使其得以提供高生產效率。

• 業界最高資本效益結合最高生產效率及同類最佳產量
• 基於生產效果久經證實的高產量 K465 平臺
• 融入全新 Uniform FlowFlange® 技術，具有最高晶圓內均勻性及終極製程可重複性
• 簡化的設計可輕鬆進行調諧，實現快速生產資格檢驗及維護後快速恢復投產
• TurboDisc 技術維護率低，能實現最高的系統可用性
• 最低擁有成本換取最大盈利性