TurboDisc K475 As/P 有機金屬化學氣相沉積法 (MOCVD) 系統

最佳的可靠性和最低廉的生產成本

TurboDisc® K475 As/P 有機金屬化學氣相沉積 (MOCVD) 系統，是製造高級化合物半導體裝置的最佳工具，產量為業界最高，裝置包括：

• 聚光型太陽光電 (CPV) 太陽能電池
• ROY LED (紅、橙、黃 LED)
• 雷射二極體
• pHEMT (擬晶性高電子移動率電晶體)
• HBT (異質接面雙極電晶體)

K475 運用 Veeco 歷久不衰的專業技術 (GaN LED 的市場龍頭)，並結合不可或缺的反應器設計元素，提供最長的運作時間和最高的生產量。設計元素包括調整式 FlowFlange®、進階 RealTemp® 200 溫度控制技術，以及最快的 TurboDisc 高速層流速度，此外，合併的系統承載可維持一定的真空度，將運作停機時間減至最短。所有元素都是節約成本的功臣，因此 K475 才能展現超高效能。

Veeco：隨時都能開工。

聚光型太陽光電 (CPV) 技術開發迅速，提供多重概念驗證的比率裝置 (1 MW 或以下)，更在世界各地高太陽直接輻射地區 (DNI) 都有發展大型計劃。As/P 有機金屬化學氣相沉積法 (MOCVD) 已證實為製造 CPV 裝置中重要化合物半導體層的挑選技術。Veeco 提供最頂級的有機金屬化學氣相沉積法 (MOCVD) 設備，大大降低了 As/P 有機金屬化學氣相沉積法 (MOCVD) 技術中三接面太陽能電池的生產成本，並且提供最佳的可靠性和成本最低廉的組合式系統，輕鬆提升製造商的產量。

選擇 TURBODISC K475

• 最高利潤和生產力
• 重要的整合式反應器設計技術，提供卓越的一致性、複製性和最長運作時間
• 完善的真空承載室將運作停機時間縮到最短
• 易於維護及升級的模組設計