NEXUS PVD-HR 系統

為高速率鋁鍍膜提供均勻性及可複製性

Veeco 的高速率鋁 NEXUS PVD-HR 物理氣相沉積系統可提供一流的厚度均勻性及晶圓間可重複性，不會出現靶中毒。NEXUS PVD-HR 將「同類最佳」技術以較低的擁有成本整合到一個佔用空間很小的平臺上，設計用於製作無弧、無針孔薄膜。

• 最高產量加上最高超過競爭對手 4 倍的更佳均勻性及可重複性
• 業界領先的 6 x 8" 晶圓產量
• 系統支援 200mm，具有更高的製程靈活性
• 一流的鍍膜速率加上可調諧的薄膜屬性，帶來超低的擁有成本
• 世界級 NEXUS 平臺整合了廣泛的 Veeco 技術，比如離子束鍍膜、離子束蝕刻、原子層鍍膜及反應性濺鍍等技術