NEXUS TAMR 物理氣相沉積系統

可實現下一代資料儲存應用

Veeco NEXUS TAMR PVD 系統可鍍製重要的低損耗薄膜，用於製作雷射的光波導。它在「電介質」及「金屬模式」作業中具有對氧化薄膜進行加熱鍍膜的能力。該等創新令到具有高鍍膜速率及低光耗損率的五氧化二鉭 (Ta2O5) 及氧化鋁 (Al2O3) 薄膜之問世。Veeco TAMR PVD 系統利用了 Veeco 久經生產證實的高速率反應性鋁平臺及專有製程控制功能。

• 無與倫比的可靠性及均勻性有助提升製程產量
• 更低擁有成本即可獲得更高產量及更長運行時間
• NEXUS 平臺融合了極其廣泛的 Veeco 技術，比如離子束鍍膜、離子束蝕刻及原子層鍍膜