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有機金屬化學氣相沉積 (MOCVD) 系統
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TurboDisc MaxBright GaN 有機金屬化學氣相沉積 (MOCVD) 多反應器系統

 

業界 LED 製造之最高生產效率平臺

TurboDisc® MaxBright® GaN 有機金屬化學氣相沉積 (MOCVD) 多反應器系統是業界最具生產效率的有機金屬化學氣相沉積 (MOCVD) 系統，其設計旨在製造高品質、高亮度的發光二極體 (LED)。MaxBright 透過將多個高產量 MOCVD 反應器融合到一個分子 2- 或 4-反應器叢集架構中，妥善利用了 Veeco 久經生產證實的 Uniform FlowFlange® 技術及自動化專門技術。改進型反應器基於 Veeco 高度成功的 K465i 設計，同時具有擴展晶圓容量以及進階、閉環熱專有控制技術，相比標準 K465i 可實現 25% 的產量提昇。此外，配方可從 K465i 無縫轉移 MaxBright，實現快速投產。

  • 多反應器架構具有業界最高生產效率
    及最低擁有成本。
  • 反應器相比
    行業標準的 K465i™，可實現 25% 的產量提昇
  • 最高的佔用空間效率是獨立型有機金屬化學氣相沉積 (MOCVD) 系統的 2.5 倍
  • 系統架構實現了單層或多層生長室
    生長能力
  • 配方可從 K465i 無縫轉移以實現快速投產
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