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有機金屬化學氣相沉積 (MOCVD) 系統
TurboDisc MaxBright GaN 有機金屬化學氣相沉積 (MOCVD) 多反應器系統
TurboDisc K475 As/P 有機金屬化學氣相沉積法 (MOCVD) 系統
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TurboDisc K465i GaN 有機金屬化學氣相沉積 (MOCVD) 系統
TurboDisc K465 GaN 有機金屬化學氣相沉積 (MOCVD) 系統
TurboDisc E475 As/P 有機金屬化學氣相沉積 (MOCVD) 系統
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分子束磊晶 (MBE) 坩鍋
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用於氧氣、氮氣及氫氣的 UNI-Bulb RF 電漿來源
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分子束磊晶 (MBE) 系統
GEN10 分子束磊晶 (MBE) 系統
GEN2000 Edge 分子束磊晶 (MBE) 系統
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CIGS 熱沉積來源
熱沉積來源
光伏 (PV) 系列 CIGS 來源
功能及優勢
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光伏 (PV) 系列 CIGS 硒用閥控來源
離子束系統及離子源
離子束鍍膜
SPECTOR 承載離子束鍍膜 (IBD) 系統
SPECTOR-HT 離子束鍍膜 (IBD) 系統
功能及優勢
NEXUS LDD-IBD 離子束鍍膜系統
SPECTOR 大面積行星齒輪式離子束鍍膜 (IBD) 系統
SPECTOR 離子束鍍膜系統
NEXUS IBD 離子束鍍膜系統
離子束蝕刻
功能及優勢
NEXUS IBE-350Si 離子束蝕刻系統
NEXUS IBE-420i 離子束蝕刻系統
NEXUS IBE-420Si 離子束蝕刻系統
NEXUS IBE-350Se 離子束蝕刻系統
離子源
無柵極陽極層離子源
線性陽極層離子源
功能及優勢
ALS 340
ALS 650
ALS 1000
ALS 1500
柵極直流離子源
3cm 直流 (ITI) 離子源
功能及優勢
3cm 直流 (CSC) 離子源
5cm 直流離子源
8cm 直流離子源
11cm 直流離子源
15cm 直流離子源
21cm 直流離子源
2.5cm x 22cm 直流離子源
6cm x 30cm 直流離子源
6cm x 50cm 直流離子源
SOLUS 直流離子源控制器
MPS3000 電源
MPS5001 電源
柵極 RF 離子源
功能及優勢
3cm RF 離子源
6cm RF 離子源
12cm RF 離子源
16cm RF 離子源
16cm RF 高功率
6cm x 22cm RF 離子源
6cm x 66cm RF 離子源
6cm x 110cm RF 離子源
RF2001 電源
無柵極終端霍爾離子源
功能及優勢
Mark I+ 無柵極離子源
Mark I 無柵極離子源
Mark II 無柵極離子源
Mark II 無柵極高輸出
Mark II+ 無柵極離子源
Mark II+ 無柵極高輸出
Mark II+ 控制器
磁控管
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柱型磁控管
物理氣相沉積系統
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