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技術及產品
有機金屬化學氣相沉積 (MOCVD) 系統
TurboDisc MaxBright GaN 有機金屬化學氣相沉積 (MOCVD) 多反應器系統
TurboDisc K475 As/P 有機金屬化學氣相沉積法 (MOCVD) 系統
功能及優勢
TurboDisc K465i GaN 有機金屬化學氣相沉積 (MOCVD) 系統
TurboDisc K465 GaN 有機金屬化學氣相沉積 (MOCVD) 系統
TurboDisc E475 As/P 有機金屬化學氣相沉積 (MOCVD) 系統
分子束磊晶 (MBE) 技術
分子束磊晶 (MBE) 組件
基材加熱器
分子束磊晶 (MBE) 線性運動快門
氣體來源傳送系統
磷回收系統
功能及優勢
CBr4 氣流控制系統
磷閥控碎裂器溫度控制器
自動閥門定位器
生長階段定位器
UNI-Bulb RF 電漿來源自動調諧器
分子束磊晶 (MBE) 系統的生長控制及排程軟體
帶有 PID 溫度控制器的直流電源
分子束磊晶 (MBE) 坩鍋
分子束磊晶 (MBE) 加熱視埠
分子束磊晶 (MBE) 來源法蘭
分子束磊晶 (MBE) 系統線纜
UNI-Block 分子束磊晶 (MBE) 基材載具
氧壓控制系統
分子束磊晶 (MBE) 來源
高溫
高溫來源
功能及優勢
摻質
功能及優勢
摻質來源
低溫氣體來源
低溫
砷閥控裂解器
磷閥控裂解器
功能及優勢
抗氨來源
抗氧來源
腐蝕系列閥控裂解器
硒閥控裂解器
硫閥控裂解器
SUMO 來源
雙燈絲來源
單燈絲來源
中溫
功能及優勢
抗氨來源
抗氧來源
鎵和銦的熱唇 SUMO 來源
向下查詢鎵和銦的 SUMO 來源
鋁的冷唇 SUMO 來源
雙燈絲來源
單燈絲來源
特性
功能及優勢
用於氧氣、氮氣及氫氣的 UNI-Bulb RF 電漿來源
氫原子來源
氣體裂解器
低溫氣體來源
分子束磊晶 (MBE) 系統
GEN10 分子束磊晶 (MBE) 系統
GEN2000 Edge 分子束磊晶 (MBE) 系統
功能及優勢
GEN20 分子束磊晶 (MBE) 系統
GEN2000 Edge 分子束磊晶 (MBE) 系統
GEN930 分子束磊晶 (MBE) 系統
GEN II 分子束磊晶 (MBE) 系統
CIGS 熱沉積來源
熱沉積來源
光伏 (PV) 系列 CIGS 來源
功能及優勢
用於銅、銦及鎵的光伏 (PV) 系列 CIGS SUMO 來源
光伏 (PV) 系列 CIGS 硒用閥控來源
離子束系統及離子源
離子束鍍膜
SPECTOR 承載離子束鍍膜 (IBD) 系統
SPECTOR-HT 離子束鍍膜 (IBD) 系統
功能及優勢
NEXUS LDD-IBD 離子束鍍膜系統
SPECTOR 大面積行星齒輪式離子束鍍膜 (IBD) 系統
SPECTOR 離子束鍍膜系統
NEXUS IBD 離子束鍍膜系統
離子束蝕刻
功能及優勢
NEXUS IBE-350Si 離子束蝕刻系統
NEXUS IBE-420i 離子束蝕刻系統
NEXUS IBE-420Si 離子束蝕刻系統
NEXUS IBE-350Se 離子束蝕刻系統
離子源
無柵極陽極層離子源
線性陽極層離子源
功能及優勢
ALS 340
ALS 650
ALS 1000
ALS 1500
柵極直流離子源
3cm 直流 (ITI) 離子源
功能及優勢
3cm 直流 (CSC) 離子源
5cm 直流離子源
8cm 直流離子源
11cm 直流離子源
15cm 直流離子源
21cm 直流離子源
2.5cm x 22cm 直流離子源
6cm x 30cm 直流離子源
6cm x 50cm 直流離子源
SOLUS 直流離子源控制器
MPS3000 電源
MPS5001 電源
柵極 RF 離子源
功能及優勢
3cm RF 離子源
6cm RF 離子源
12cm RF 離子源
16cm RF 離子源
16cm RF 高功率
6cm x 22cm RF 離子源
6cm x 66cm RF 離子源
6cm x 110cm RF 離子源
RF2001 電源
無柵極終端霍爾離子源
功能及優勢
Mark I+ 無柵極離子源
Mark I 無柵極離子源
Mark II 無柵極離子源
Mark II 無柵極高輸出
Mark II+ 無柵極離子源
Mark II+ 無柵極高輸出
Mark II+ 控制器
磁控管
功能及優勢
柱型磁控管
物理氣相沉積系統
功能及優勢
NEXUS TAMR PVD 系統
NEXUS PVD-1 系統
NEXUS PVD-HR 系統
NEXUS PVDi 系統
CYCLONE 物理氣相沉積系統
類鑽碳系統
功能及優勢
NEXUS DLC 系統
化學氣相沉積
NEXUS CVD 系統
功能及優勢
研磨及切割系統
功能及優勢
Optium ADS-800 進階切割系統
Optium ADS 160進階切割系統
Optium ASL 200 硏磨系統
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2011 年 8 月，Manfra 主講
 
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