柵極直流離子源

柵極直流離子源

線性柵格直流離子源久經證實適用於高度均勻、可靠的離子束鍍膜製程平臺,此類平臺主要利用單塊較大/較寬的基材或大塊基材批次。

SOLUS 直流離子源控制器

Veeco 的 SOLUS™ 直流離子源控制器採用最先進的精密控制系統設計,可為離子源作業提供穩定的功率。

6 公分 x 30 公分直流離子源

Veeco 的柵極直流離子源經實證適用於大型/寬型基材或大批基材的線性源,是高度均勻、可靠的離子束鍍膜製程平台的理想之選。