柵極 RF 離子源

柵極 RF 離子源

Veeco 的柵極 RF 離子源是專為改善長時間離子束鍍膜製程生產所設計。

12 公分 RF 離子源

提高長時間持續反應性製程的績效及品質,比如透過 Veeco 12 公分 RF 離子源進行光學塗層的離子束輔助鍍膜或離子束鍍膜。

16 公分高功率 RF 離子源

Veeco 的 16 公分 RF HP 離子源可在 120 公分的面積上提供 <10% 的射束均勻性,相當適合用於反應性製程。

6 公分 x 22 公分 RF 離子源

Veeco 的 6 x 22 公分無柵極線性 RF 離子源專為大量生產基材的同軸系統所設計,最適合應用於使用 100% 反應性氣體的製程。

6 公分 x 66 公分 RF 離子源

Veeco 的 6 x 66 公分 RF 線性離子源是對大型基材進行均勻處理的理想之選,其維護率低,可透過無燈絲作業實現長時間持續生產運作。

NOVUS RF 離子源控制器

Veeco 的 NOVUS RF 離子源控制器採用最先進的精密控制系統設計,可為離子源作業提供穩定的功率。

16 公分 RF 離子源

可為反應性製程提供全面統一的離子束來源,例如離子束輔助鍍膜或離子束鍍膜這類需要受到高度控制的光學塗層。