無柵極終端霍爾離子源

無柵極終端霍爾離子源

Veeco 的無柵極終端霍爾離子源為真空塗層製程提供高射束電流。

Mark II+ 無柵極高輸出

Mark II+ 無柵極高輸出離子源專為真空塗層製程中直徑範圍 70-130 公分的真空室所設計,適用於需要高電流、低能量離子的應用。

Mark I+ 無柵極離子源

Veeco 的 Mark I+ 無柵極離子源,可提升製程的一致性和預防基材的損壞。它專為真空塗層製程所設計,可提供高射束電流。

Mark II+ 控制器

利用 Mark II+ 離子源控制器,最大化離子源性能,以及薄膜蝕刻、清潔及鍍膜的均勻性。

Mark II+ 無柵極離子源

大幅提升後的射束電流與可移除的陰極組件,為 Mark II+ 終端霍爾離子源增添新價值。