全新 Lumina® 平台專門針對高效能光子元件進行設計,例如垂直共振腔面射型雷射、邊射型雷射和次毫米發光二極體/微發光二極體
革命性的、低擁有成本、經過 HVM 生產驗證的高溫退火製程解決方案
可支援新一代 RF-MEMS、感測器、uLED 以及 AR/VR 裝置的生產
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光子學
通訊和資料儲存裝置
感測器、科學和動力
Veeco 擁有數十年的材料科學和製程技能,在智能解決方案的地位是獨一無二的,能夠排除奈米尺度裝置和先進封裝生產的障礙。
我們的專家隨時針對您未來的光子學創新領域進行合作,例如消費性電子、通訊、醫療、製造、安全和娛樂。
5G 的發展需要從根本上改變通訊網路和資料儲存基礎設施。您需要我們獨特技能可以提供的解決方案。
與我們的 MEMS、材料科學和動力管理專家共同合作,您在智能城市、工廠和運輸系統的未來即能占有一席之地。
雷射處理系統
微影系統
離子束系統
有機金屬化學氣相沉積 (MOCVD) 系統
濕式處理系統
分子束磊晶 (MBE) 技術
原子層沉積 (ALD) 系統
物理氣相沉積系統
切割及研磨系統
氣體及蒸汽傳送系統
Veeco 已開發出創新的技術產品,以實現最先進技術節點的高溫退火製程解決方案。
Veeco 在微影系統處於領先地位,專門設計來解決更細微線路和更小空間所帶來的挑戰。
Veeco 無可比擬的離子束技能提供成熟的蝕刻和鍍膜效能,實現數十年來的資料儲存裝置和 MEMS 市場。
Veeco 提供一系列領先業界的 GaN 和 As/P 有機金屬化學氣相沉積法 (MOCVD) 系統,均能提高最大生產量同時又能降低擁有成本,運用於各種應用層面,包括顯示器、3D 感應、LiDAR、微 LED 顯示器和光學資料通訊。
使用永續性實務的表面處理非常重要,以確保先進微電子技術的可靠性,專門運用於汽車應用、醫療設備、5G 和雲端儲存。
一次打造一個新型化合物半導體材料的薄膜晶體時,您需要可高度配置的分子束磊晶技術 (MBE) 系統。
裝置節點收縮會持續下去,量產過程中的節點為 10 奈米和 7 奈米,開發階段則可達 3 奈米。我們的原子層沉積 (ALD) 工具即使在最細微的節點也能提供您最大程度的精密性與層均勻性。
Veeco 的物理氣相沉積系統擁有最大的運用彈性,搭配先進的製程功能、無與倫比的均勻性與多種鍍膜模式,可適用於廣泛的薄膜鍍膜應用。
先進光子元件倚靠先進薄膜技術打造的精密光學。我們提供嚴謹的公差和絕佳的平面度,在切割及研磨方面您可以信賴我們。
先進半導體裝置專為最尖端的運算製程開發而成,例如 AI 和邊緣運算,這些都需要在最高純度的環境中製作。因此,材料的純度非常重要,而我們能發掘無窮的「材料」潛力。
Veeco 遍及全球的服務與支援在業界樹立了典範,我們將產品的正常運作時間增加至最長,並將擁有成本降至最低。Veeco 提供全年無休的全球服務,我們的服務工程師均接受過原廠訓練並通過認證,以世界級服務提供最新的應用支援,並確保我們的設備達到最高生產效率。
客戶生產效率解決方案
我們攜手合作,在適當的時間和地點使用最合適的技術,將能克服障礙和挑戰。
探索
在您面臨複雜的挑戰和障礙,我們為您尋找解決方案,讓您的技術得以商業化。這不僅是我們的使命,更是我們的熱忱所在。
開發
我們充分利用多樣化的核心能力來開發解決方案,以符合未來在半導體、微電子技術和其他新興高成長市場的需求。
協同合作
與來自不同領域的優秀人才所組成的聯合全球團隊合作,讓您得以發揮跨職能的創意和更宏觀的思維來發揮最大的影響。