光罩應用

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超紫外線 (EUV) 微影在現代快速成長。前所未有且憑藉超紫外線 (EUV) 實現的奈米尺度裝置需要極致的光罩精密,只有 Veeco 的技術能化不可能為可能。由於積體電路 (IC) 的特徵尺寸有縮減的趨勢,製造時採用的設計也同樣有縮減的趨勢。製造能夠支援更精細幾何的光罩需要創新的思維。並肩合作,我們可以打造高容量生產的解決方案。

複雜圖案

光罩體現了 IC 設計者的願景,從概念到實現。縮小的裝置節點增加了圖案化製程的難度,首先即為光罩的製作。透過有規劃的合作模式,我們可以自訂工具和系統來製作無缺陷的光罩。

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