應用於光子學的 Lumina As/P 有機金屬化學氣相沉積法 (MOCVD) 系統


以超過 20 年的高產量有機金屬化學氣相沉積 (MOCVD) 經驗,製作出 As/P 結構的光子元件
Lumina R480 和 R480S 系統皆是以 Veeco 業界領先的有機金屬化學氣相沉積 (MOCVD) TurboDisc® 技術為基礎,在長時間的生產活動提供絕佳的均勻性和低缺陷度,同時擁有驚人的產量和靈活性。此外,Veeco 專有技術將均均勻的熱控制提升至絕佳的厚度和成分均勻性。該系統提供平順的晶圓尺寸過渡,能夠在晶圓上沉積高品質的 As/P 磊晶層,直徑高達六英寸。R480 和 R480S 系統讓使用者能夠自訂系統,創造最大的價值。

專為先進的新一代裝置設計

垂直共振腔面射型雷射

  • 3D 感應
  • LiDAR
  • 高速資料通訊

邊射型雷射

  • 先進光學通訊
  • 矽光子

次毫米發光二極體和微發光二極體

  • 4K 和 8K 電視顯示器
  • 智慧型手機
  • 穿戴式裝置
  • AR/VR(擴增實境/虛擬實境)

我們的團隊隨時提供協助