Mark I+ 無柵極離子源


具有高射束電流,適用於真空塗層製程

Mark I+ 無柵極離子源是表面預清潔、輔助鍍膜及選擇蝕刻應用的理想之選,其高射束電流設計適用於真空塗層製程,可改進製程均勻性,並保護基材免受損壞。

  • 設計用於在直徑為 750 公厘或以下的系統中進行的真空塗層製程
  • 可高效適用於需要高電流低能量離子的應用
  • 高射束電流對控制薄膜壓力及化學計量尤為有用
  • 此外還極適用於工業製程,包括反應性環境
  • Mark 系列的離子源控制器(另行提供)可補充來源性能,並提供穩定可靠的製程作業

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