Mark II+ 控制器


專為符合終端霍爾離子源電漿特性所設計

利用 Mark II+ 離子源控制器,最大化離子源性能,以及薄膜蝕刻、清潔及鍍膜的均勻性。Veeco 特別在設計中符合終端霍爾離子源的電漿特性,這有助確保高生產效率的製程運行,以及精密控制離子束輸出。

  • 最先進的切換電源
  • 整合型氣體控制
  • 自動化弧恢復
  • 方便使用的圖形介面及自動功能可增強製程生產效率
  • 為高度均勻的穩定離子束製程提供穩定可靠的功率

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