Mark II+ 無柵極高輸出


適用於需要高電流低能量離子的應用

Mark II+ 無柵極高輸出離子源具有空陰極,可在直徑範圍為 70-130 公分的生長室內進行真空塗層製程時使用。

  • 適用於表面預清潔等應用以及需要高電流低能量離子的輔助鍍膜
  • 可改進對薄膜及化學計量的控制
  • 水冷
  • 極適用於精確或工業光學塗層環境
  • 靈活的整合支援節省空間的系統設計以及廣泛的束孔徑角
  • 結構組態可包含或不含燈絲,視製程需求而定

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