量產用原子層沉積 (ALD)

量產用原子層沉積 (ALD)

大型基材上的均勻性、可複製性和低溫鍍膜使原子層沉積 (ALD) 成為新一代大規模製造薄膜技術的理想選擇。

Veeco 通過擴展製程並在全球將原子層沉積 (ALD) 應用到自動化生產線和集束型製程設備中,使其完善為生產等級的技術。與以前的塗層技術相比,已整合使用了我們的原子層沉積 (ALD) 系統的製造商除了見證了產品品質與可靠性的提升,同時也因此能降低營運成本和節省生產空間。

批次原子層沉積 (ALD) 工具:Phoenix®

如果您有生產原子層沉積 (ALD) 的需求,那麼我們的 Phoenix® 生產 ALD 系統是正確的選擇。Phoenix® 是批次處理原子層沉積 (ALD) 工具,能夠一次容納大量基材。其獨特的腔室設計確保批次之間的薄膜準確無誤。
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HVM 原子層沉積 (ALD) 工具:Firebird™

Firebird™ HVM 原子層沉積 (ALD) 系統透過長期的活動和增強的可維修性,滿足並超過您擁有成本的需求,從小批生產前評估一直到逐步提高產量。Firebird™ 每月提供多達 40,000 個晶圓的產量,結合了一流的生產率、出色的薄膜性能以及較低的營運成本,符合您最嚴格要求的特定晶圓製造的大量生產需求。
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