柵極 RF 離子源

Veeco 的柵極 RF 離子源是專為改善長時間離子束鍍膜製程生產所設計。

柵極 RF 離子源

Veeco 的柵極 RF 離子源是專為改善長時間離子束鍍膜製程生產所設計。

Veeco 的 NOVUS RF 離子源控制器可為離子源作業提供穩定的功率,採用最先進的精密控制……
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Veeco 的 6 x 22 公分線性柵格 RF 離子源專為大量生產基材的同軸系統所設計,最適合應用於……
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Veeco 的 6 x 66 公分 RF 線性離子源是對大型基材進行均勻處理的理想之選,其維護率低,可透過無燈絲作業……
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Veeco 的 16 公分 RF 高功率 (HP) 離子源相當適合用於反應性製程,可提供射束均勻性……
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可為反應性製程提供全面均勻的離子束來源,例如離子束輔助鍍膜或離子束鍍膜 (IBD)……
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提高長時間持續反應性製程的效能及品質,例如離子束輔助鍍膜或離子束鍍膜 (IBD)……
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