無柵極終端霍爾離子源

Veeco 的無柵極終端霍爾離子源為真空塗層製程提供高射束電流。

無柵極終端霍爾離子源

Veeco 的無柵極終端霍爾離子源為真空塗層製程提供高射束電流。

Veeco 的 Mark I+ 無柵極離子源,可提升製程的均勻性和預防基材的損壞。提供高射束……
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大幅提升後的射束電流與可移除的陰極組件,為 Mark II+ 終端霍爾離子源增添新價值。
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利用 Mark II+ 離子源控制器,最大化離子源性能,以及薄膜蝕刻、清潔及鍍膜的均勻性。
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Mark II+ 無柵極高輸出離子源適用於需要高電流、低能量離子的應用,設計專為真空塗層……
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