離子束蝕刻

憑藉 NEXUS® 離子束蝕刻 (IBE) 系統實現精密、複雜的蝕刻功能,達到離散微電子裝置及元件的高產量生產。

蝕刻系統

憑藉 NEXUS® 離子束蝕刻 (IBE) 系統實現精密、複雜的蝕刻功能,達到離散微電子裝置及元件的高產量生產。

低擁有成本與最高刻蝕屬性的獨立離子束蝕刻系統
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利用 NEXUS® IBE™ 離子束蝕刻系統,最大限度地提高滑塊產量,實現不同凡響的離子束蝕刻均勻性。
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