特殊來源

Veeco 可提供最全面的分子束磊晶技術 (MBE) 來源選擇,包括單燈絲及雙燈絲設計。

實現分子束磊晶技術 (MBE) 系統的來源氣體(例如 CBr4 和 NH3)低成本導入,利用 Veeco 的低溫氣體……
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實現電子及光電材料的 GaN 生長最佳條件,以及無可比擬的電漿穩定性及可複製性,透過……
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Veeco 的氣體裂解器擁有獨特的功能,可最佳化通量均勻性,提供氣體的高效能超高真空 (UHV) 傳送。
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Veeco 可回收來源可因應分子束磊晶技術 (MBE) 的根本限制,包括來源容量、維護時的來源移除以及系統正常運作時間。
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氫原子來源這樣的純耐火金屬來源是專為在攝氏 1800-2200 度下進行作業所設計,可相容於大多數準備和……
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利用 Veeco 的抗氧且延長生命的來源,實現中溫及局部壓力環境下的精密分子束磊晶 (MBE) 作業。
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